evitar el arsenico en el concentrado de cobre

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EVITAR EL ARSENICO EN EL CONCENTRADO DE COBRE Eliminar las impurezas de arsénico (As) es una de las mayores dific metalurgia del cobre, el As al procesarse en las fundiciones, forma compuestos que pueden ser liberados a la atmósfera y dañar fuertemente la salud de las pe su reconocida actividad carcinógena !recuentemente el As se presenta en los concentrados de "u como enargita ("u#A estos depósitos están en su mayor&a en pa&ses como !ilipinas, EE'', é ico, *er+ y " ile Alternativas para el tratamiento de concentrado de Cu -a tostación en atmósfera o idante es una de las opciones para el pre tr piro metal+rgico con el fin de remover el arsénico de los con enargita a través de la volatilización -a tostación selectiva del concentrado de enargita es la remoción má ima arsénico para obtener un producto vendible, a la vez que retiene un nive azufre en la fundición $e a encontrado que una atmósfera reductora se produce una mayor remoc de arsénico al tratar materiales que contienen cobre con tenant calcopirita y pirita En el procesode tostación selectiva, los materiales sulfurosos comple.os son calentados en condiciones de aire reducido o es Amplio rango de la distribución del arsénico obtenido para un particular tipo es debido no solamente para las variaciones en carga y composición, sino tambi diferentes condiciones operativas (temperatura, volumen de gas, composiciones gas)

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Evitar El Arsenico en El Concentrado de Cobre

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EVITAR EL ARSENICO EN EL CONCENTRADO DE COBRE

Eliminar las impurezas de arsnico (As) es una de las mayores dificultades en la metalurgia del cobre, el As al procesarse en las fundiciones, forma compuestos voltiles que pueden ser liberados a la atmsfera y daar fuertemente la salud de las personas por su reconocida actividad carcingena.Frecuentemente el As se presenta en los concentrados de Cu como enargita (Cu3AsS4), estos depsitos estn en su mayora en pases como Filipinas, EEUU, Mxico, Per y Chile.

Alternativas para el tratamiento de concentrado de Cu

La tostacin en atmsfera oxidante es una de las opciones para el pre tratamiento piro metalrgico con el fin de remover el arsnico de los concentrados de enargita a travs de la volatilizacin. La tostacin selectiva del concentrado de enargita es la remocin mxima de arsnico para obtener un producto vendible, a la vez que retiene un nivel alto de azufre en la fundicin. Se ha encontrado que una atmsfera reductora se produce una mayor remocin de arsnico al tratar materiales que contienen cobre con tenantita, enargita, calcopirita y pirita. En el proceso de tostacin selectiva, los materiales sulfurosos complejos son calentados en condiciones de aire reducido o escaso. Amplio rango de la distribucin del arsnico obtenido para un particular tipo de proceso es debido no solamente para las variaciones en carga y composicin, sino tambin para diferentes condiciones operativas (temperatura, volumen de gas, composiciones del gas).

Mediante el diagrama de Pourbaix

Parte del cobre que se desplaza al residuo se debe haber precipitado formando arseniatos, lo cual es termodinmicamente posible de acuerdo al diagrama Cu-As-H2O que se muestra en la figuraUn aspecto importante que merece destacar, es que la precipitacin de impurezas se incrementa notablemente cuando se alcanzan valores de pH superiores a 1,5; lo cual acontece recin luego de 35 a 40 horas de reaccin. Esto significa que, la cintica del proceso de neutralizacin con scrap y chatarra retarda la fase de precipitacin de los arseniatos. Para el caso de los xidos de cobre, las pruebas a nivel de laboratorio demostraron que existe la posibilidad de reducir los tiempos de neutralizacin hasta la mitad, si se refuerza con agitacin mecnica al sistema. En cambio, la disolucin del cobre metlico es lenta y para poder acelerarla, aparte del uso de agentes que eleven el potencial oxidante del medio, se podra aprovechar la alta sensitividad a la corrosin que reporta el cobre al contactarse con soluciones acuosas a alta velocidad, pero ello demandara un cambio radical en el diseo del reactor.