CURSO :FISICA ELECTRONICA

ALUMNO: DANNY CHARLYDANNY CHARLY CARRIZALES FLORES CARRIZALES FLORES FACULTAD : ING : DE SISTEMASFACULTAD : ING : DE SISTEMAS

Un semiconductor es un material o compuesto que tiene propiedades aislantes o conductoras. Unos de los elementos más usados como semiconductores son el silicio, el germanio y selenio, además hay otros que no son elementos como los mencionados anteriormente si no que son compuestos como lo son el Arseniuro de Galio, el Telururo de Plomo y el Seleniuro de Zinc.

Es un semiconductor puro. A temperatura ambiente se comporta como un aislante porque solo tiene unos pocos electrones libres y huecos debidos a la energía térmica.

En un semiconductor intrínseco también hay flujos de electrones y huecos, aunque la corriente total resultante sea cero. Esto se debe a que por acción de la energía térmica se producen los electrones libres y los huecos por pares, por lo tanto hay tantos electrones libres como huecos con lo que la corriente total es cero.

Intrínseco indica un material semiconductor extremadamente puro contiene una cantidad insignificante de átomos de impurezas. Donde n=p=ni

Cuando los electrones libres llegan la extremo derecho del cristal, entran al conductor externo (normalmente un hilo de cobre) y circulan hacia el terminal positivo de la batería. Por otro lado, los electrones libres en el terminal negativo de la batería fluirían hacia el extremos izquierdo del cristal. Así entran en el cristal y se recombinan con los huecos que llegan al extremo izquierdo del cristal. Se produce un flujo estable de electrones libres y huecos dentro del semiconductor.

Si un electrón de valencia se convier te en electrón de conducción deja una posición vacante, y si aplicamos un campo eléctrico al semiconductor, este “hueco” puede ser ocupado por otro electrón de valencia, que deja a su vez otro hueco. Este efecto es el de una carga +e moviéndose en dirección del campo eléctrico. A este proceso le l lamamos ‘generación térmica de pares electrón-hueco’

El si l icio en su modelo bidimensional, Vemos como cada átomo de si l icio se rodea de sus 4 vecinos próximos con lo que compar te sus electrones de valencia. A 0ºK todos los electrones hacen su papel de enlace y tienen energías correspondientes a la banda de valencia. Esta banda estará completa, mientras que la de conducción permanecerá vacía. Es cuando hablamos de que el conductor es un aislante per fecto.

El dopaje consiste en sustituir algunos átomos de silicio por átomos de otros elementos. A estos últimos se les conoce con el nombre de impurezas. Dependiendo del tipo de impureza con el que se dope al semiconductor puro o intrínseco aparecen dos clases de semiconductores.Semiconductor tipo P Semiconductor tipo N

Impurezas de valencia 5 (Arsénico, Antimonio, Fósforo). Tenemos un cristal de Sil icio dopado con átomos de valencia 5Los átomo de valencia 5 tienen un electrón de más, así con una temperatura no muy elevada (a temperatura ambiente por ejemplo), el 5º electrón se hace electrón l ibre. Esto es, como solo se pueden tener 8 electrones en la órbita de valencia, el átomo pentavalente suelta un electrón que será l ibre.

Impurezas de valencia 3 (Aluminio, Boro, Galio). Tenemos un cristal de Sil icio dopado con átomos de valencia 3.

Los átomo de valencia 3 tienen un electrón de menos, entonces como nos falta un electrón tenemos un hueco. Esto es,  ese átomo trivalente tiene 7 electrones en la orbita de valencia. Al átomo de valencia 3 se le l lama "átomo trivalente" o "Aceptor".

A estas impurezas se les l lama "Impurezas Aceptoras". Hay tantos huecos como impurezas de valencia 3 y sigue habiendo huecos de generación térmica (muy pocos). El número de huecos se l lama p (huecos/m 3) .

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Para los semiconductores del Grupo IV como Sil icio, Germanio y Carburo de si l icio, los dopantes más comunes son elementos del Grupo II I o del Grupo V. Boro, Arsénico, Fósforo, y ocasionalmente Galio, son uti l izados para dopar al Sil icio.

El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Boro (P dopaje). En el caso del boro le falta un electrón y, por tanto, es donado un hueco de electrón .La cantidad de portadores mayoritarios será función directa de la cantidad de átomos de impurezas introducidos.

En la producción de semiconductores, se denomina dopaje al proceso intencional de agregar impurezas en un semiconductor extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el fin de cambiar sus propiedades eléctricas. Las impurezas utilizadas dependen del tipo de semiconductores a dopar.

Un semiconductor es “intrínseco” cuando se encuentra en estado puro, o sea, que no contiene ninguna impureza, ni átomos de otro tipo dentro de su estructura. En ese caso, la cantidad de huecos que dejan los electrones en la banda de valencia al atravesar la banda prohibida será igual a la cantidad de electrones libres que se encuentran presentes en la banda de conducción

http://fisicadesemiconductores.blogspot.com/

http://www.sc.ehu.es/sbweb/electronica/elec_basica/tema2/Paginas/Pagina4.htm

http://quintonochea.wikispaces.com/semiconductores1

http://fisicauva.galeon.com/aficiones1925812.html

http://www.ifent.org/lecciones/semiconductor/dopado.asp

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http://www.sc.ehu.es/sbweb/electronica/elec_basica/tema2/Paginas/Pagina5.htm http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)

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