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SEMICONDUCTORES PARA TRANSISTORES Ciencia de materiales

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SEMICONDUCTORES PARA TRANSISTORES

Ciencia de materiales

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ÍNDICE

1 INTRODUCCIÓN. QUÉ ES UN TRANSISTOR .....................................................................5

2 LOS TRANSISTORES. HISTORIA Y EVOLUCION ................................................................6

3 COMPORTAMIENTO PRACTICO DE LOS SEMICONDUCTORES .........................................8

3.1 UNIÓN PN.......................................................................................................................8

3.1.1 Polarización Directa ..............................................................................................9

3.1.2 Polarización Inversa ..............................................................................................9

4 MATERIALES SEMICONDUCTORES. .............................................................................. 10

4.1 TIPOS DE SEMICONDUCTORES ............................................................................................11

4.1.1 Semiconductores intrínsecos...............................................................................11

4.1.2 Semiconductores extrínsecos ..............................................................................12

4.2 DOPAJE DE SEMICONDUCTORES .........................................................................................12

4.2.1 Dopaje por difusión.............................................................................................13

4.2.2 Dopaje por implantación de iones ......................................................................15

5 SEMICONDUCTORES EN UN TRANSISTOR .................................................................... 16

6 OBTENCIÓN DE CRISTALES DE SEMICONDUCTOR ......................................................... 19

6.1 PURIFICACIÓN ................................................................................................................19

6.2 CRECIMIENTO DEL CRISTAL ...............................................................................................21

6.3 FUSIÓN POR ZONAS .........................................................................................................23

6.4 PREPARACIÓN DE OBLEAS .................................................................................................23

7 TRANSISTORES: FUNCIONAMIENTO Y TIPOS ............................................................... 24

7.1 FUNCIONAMIENTO DE LOS TRANSISTORES ............................................................................24

7.2 TIPO DE TRANSISTORES. ...................................................................................................25

7.2.1 Transistores de unión bipolar..............................................................................25

7.2.2 Transistores de efecto campo .............................................................................27

7.2.3 Transistores UJT ..................................................................................................29

7.2.4 Transistores de potencia .....................................................................................29

8 APLICACIONES DE LOS TRANSISTORES ........................................................................ 31

8.1 APLICACIONES BJT ..........................................................................................................31

8.2 APLICACIONES FET ..........................................................................................................31

8.3 APLICACIONES UJT ..........................................................................................................32

9 INVESTIGACIONES ACTUALES EN TRANSISTORES ......................................................... 33

10 CONCLUSIONES ...................................................................................................... 35

11 BIBLIOGRAFIA ......................................................................................................... 36

11.1 PÁGINAS WEB ................................................................................................................36

11.2 LIBROS ..........................................................................................................................37

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ÍNDICE DE FIGURAS

Ilustración 1 Transistor real (izquierda) y símbolo del transistor en los circuitos electrónicos

(derecha) ..............................................................................................................................5

Ilustración 2 Tubo de vacío ..........................................................................................................6

Ilustración 3 Esquema unión PN ...................................................................................................8

Ilustración 4 Diodo polarizado en "directa" .................................................................................9

Ilustración 5 Diodo polarizado en "inversa" .................................................................................9

Ilustración 6 Órbitas electrónicas de un átomo..........................................................................10

Ilustración 7 Banda prohibida ....................................................................................................10

Ilustración 8 Semiconductor intrínseco ......................................................................................11

Ilustración 9 Semiconductor tipo P ............................................................................................12

Ilustración 10 Semiconductor tipo N ..........................................................................................12

Ilustración 11 Dopaje tipo Mesa ................................................................................................14

Ilustración 12 Dopaje planar ......................................................................................................14

Ilustración 13 Capa fotosensible ................................................................................................15

Ilustración 14 Implantación de iones .........................................................................................15

Ilustración 15 Circuito final ........................................................................................................15

Ilustración 16 Schematics by Altium: Transistor BJT NPN ..........................................................16

Ilustración 17 Movimiento de cargas en un transitor ................................................................17

Ilustración 18 Silicio mineral ......................................................................................................19

Ilustración 19 Proceso Siemens ..................................................................................................20

Ilustración 20 CIlindro de Silicio policristalino ............................................................................20

Ilustración 21 Proceso Czochralski .............................................................................................21

Ilustración 22 Esquema de funcionamiento proceso Czochralski ...............................................21

Ilustración 23 Diagrama de distribución de dopantes en el proceso Czochralski .......................22

Ilustración 24 Fusión por zonas ..................................................................................................23

Ilustración 25 Comparación oblea como materia prima final (abajo) y después de la impresión

de los circuitos....................................................................................................................23

Ilustración 26 Esquema funcionamiento de un transistor como amplificador ...........................24

Ilustración 27 Estados transistor ................................................................................................24

Ilustración 28 Intensidades en un transistor ..............................................................................25

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Ilustración 29 Esquema tipos de transistores .............................................................................25

Ilustración 30 Transistor bipolar.................................................................................................26

Ilustración 31 fig 1 ......................................................................................................................26

Ilustración 32 Símbolos de los transistores NPN Y PNP ..............................................................26

Ilustración 33 Transistor FET canal N .........................................................................................27

Ilustración 34 Transistor FET canal P ..........................................................................................27

Ilustración 35 MOSFET canal N...................................................................................................28

Ilustración 36 MOSFET canal P ...................................................................................................28

Ilustración 37 Esquema funcionamiento MOSFET......................................................................28

Ilustración 38 Diagrama transistor UJT.......................................................................................29

Ilustración 39 Transistor UJT ......................................................................................................29

Ilustración 40 Esquema tiristor ..................................................................................................30

Ilustración 41 Usos grafeno ........................................................................................................33

Ilustración 42 Transistor Tri-Gate 3D ......................................................................................33

Ilustración 43 Oblea de Molibdenita ..........................................................................................33

Ilustración 44 Oblea de transistores orgánicos ..........................................................................34

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1 INTRODUCCIÓN. QUÉ ES UN TRANSISTOR

Los transistores son unos dispositivos electrónicos semiconductores

presentes en prácticamente todo dispositivo eléctrico y electrónico.

Estos están formados por un sustrato, usualmente de hecho de

silicio y tres zonas dopadas artificialmente, dicho de otro modo,

contaminadas con materiales específicos en cantidades específicas a

las que llamamos terminales. A la primera de ellas la llamamos

emisor (E), a la segunda colector (C) y la tercera, que es una zona

intermedia entre las dos primeras y que actúa de base, es decir,

modula el paso de los portadores, base (B).

Los transistores nacieron cuando surgió la necesidad de comunicarse

a distancia, aproximadamente, en la época de la Primera Guerra Mundial. Con el paso de los

años y el desarrollo en la tecnología se les han ido incorporando mejoras. Una de las más

destacadas ha sido la reducción de su estructura y el aumento de sus propiedades. Esto ha

permitido que los transistores hayan pasado a tener un papel muy importante e

imprescindible en la electrónica que nos rodea actualmente. Sus buenas propiedades y su gran

funcionalidad y eficacia han permitido que en las últimas décadas se produzca un asombroso

avance en éste sector. Son los encargados de dejar pasar, modular o amplificar la corriente de

un circuito.

El mundo de los transistores, su tecnología y el gran abanico de aplicaciones que tienen es lo

que nos ha llevado a plantearnos los objetivos de éste trabajo. Por un lado, conocer su

funcionamiento interno, el porqué son conductores, los materiales que se utilizan y porqué,

los tipos que hay. En resumen, hacer un estudio de ellos, centrándonos en los materiales

semiconductores con los que están hechos.

Ilustración 1 Transistor real (izquierda) y símbolo del transistor en los circuitos electrónicos (derecha)

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2 LOS TRANSISTORES. HISTORIA Y EVOLUCION

Los primeros transistores nacieron a raíz de la necesidad de hacer llamadas telefónicas a larga

distancia. Por esta razón, los descubridores de esta tecnología trabajaban para la American

Telephone and Telegraph Corporation fundada por A. Graham Bell.

Lee De Forest, inventó en el año 1906 el tríodo en un

tubo de vacío. Colocando este invento a lo largo de la

línea telefónica a conseguía amplificar la señal de tal

manera que permitía hacer llamadas a larga distancia.

El tríodo lo formaban tres partes. La primera de ellas

era un cátodo que emitía electrones, la segunda un

ánodo que los captaba y finalmente una rejilla situada

entre los dos a la que se podía aplicar una tensión. Si

variabas ligeramente la corriente de la rejilla, podías

variar enormemente el flujo de electrones entre el cátodo y el ánodo, en esto consistía la

amplificación de la señal eléctrica en la que se ha traducido la señal sonora.

Por otro lado, también podía utilizarse como rectificador, es decir, como dispositivo para

convertir corriente alterna en corriente continua, que fue la base de la electrónica y

computación posterior. Revolucionaron su época al permitir amplificar las señales de radio

dando un impulso a este medio de comunicación que le llevó a ser el más importante durante

la primera mitad del siglo XX.

La empresa que lo inventó, compró la patente i mejoró el tubo. No obstante, este dispositivo

presentaba serios problemas. Uno de ellos era que producía mucha calor por lo que necesitaba

mucha energía para funcionar. En ese momento surgió la necesidad de crear un nuevo

dispositivo que solventara los problemas anteriores hasta que unos años después apareció el

primer transistor.

El origen de los transistores se remonta al año 1947, cuando John Bardeen y Walter Brattain

inventaron el transistor de contacto puntual. Éste fue el primer transistor capaz de obtener

ganancia. Éste constaba de una base de germanio semiconductor sobre la cual se apoyaban,

muy juntas, dos puntas metálicas que constituían el emisor y el receptor. No obstante,

presentaba varios inconvenientes. Por un lado, era difícil de fabricar ya que las puntas se

tenían que ajustar a mano. Por otro lado, era muy frágil con lo que con un pequeño golpe se

podían desplazar éstas puntas. Finalmente, era muy ruidoso. Por estos motivos junto con los

avances y las mejoras de los años posteriores, éste tipo de transistor acabó por desaparecer.

Un año después, en 1948, apareció otro tipo de transistor, el transistor de unión bipolar

inventado también por John y Walter Brittain, y su principio de operación fue explicado por

W.Shockley un año después. Éste fue el primer dispositivo de tres terminales en la electrónica

de estado sólido y aún es un dispositivo de elección para muchas aplicaciones digitales y de

microondas.

En 1925 Julius Adgar Lilienfeld, patentó un nuevo dispositivo de transistores, el transistor de

efecto campo pero no fue hasta 1947 cuando los laboratorios Bell desarrollaron los

dispositivos semiconductores también fue entonces cuando el efecto transistor pudo ser

observado y explicado.

Ilustración 2 Tubo de vacío

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Cabe destacar hasta una década después de su invención, el dispositivo bipolar permaneció

como el único dispositivo de tres terminales en aplicaciones comerciales. Esto era porque los

transistores de efecto de campo no podían ser fabricados confiablemente en esa época. Se

debía a que una de las interfaces, concretamente la Si-SiO2 presentaba serios problemas de

estado de interfaz de modo que el dispositivo de metal-óxido semiconductor (MOS) no era

muy confiable. Sin embargo, con el perfeccionamiento de ésta interfaz, el dispositivo MOS se

ha convertido en un serio retador para el dispositivo bipolar. Actualmente, en diversas

aplicaciones, los dispositivos MOS, han tomado la delantera.

En resumen, a raíz de la invención del primer transistor, se pudieron desarrollar gran variedad

de dispositivos electrónicos como radios portátiles, calculadoras de bolsillo o los primeros

dispositivos de telefonía hasta el día de hoy. Actualmente, los transistores han evolucionado

con el paso de los años y se han inventado más tipos pero siguen teniendo un papel muy

importante en la tecnología actual y teniendo un papel importante en el desarrollo de

tecnologías futuras.

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3 Comportamiento Practico de los Semiconductores

Cuando unimos dos cristales de semiconductor de tipo P y N es donde su creación cobra

sentido. Esta unión genera el elemento electrónico comúnmente conocido como diodo. Este

elemento, a grandes rasgos, nos permite limitar el paso de electrones en un circuito en

solamente una dirección. Para facilitar las explicaciones utilizaremos las siguientes

ilustraciones, en las cuales los círculos con carga son átomos cargados, acompañados de un

electrón (verde) libre o de círculos blancos que representan huecos. Estos electrones

representaran la carga negativa de nuestro circuito, mientras que los huecos serán la carga

positiva.

3.1 Unión PN

En el momento de unión los electrones

libres de la zona N mas cercanos a la unión

difunden en los huecos que presenta el

cristal de tipo P. Esta difusión genera iones a

los lados de la unión, en el lado N habrán

iones positivos, mientras en el lado P,

restaran iones negativos. Estos iones

generarán lo que llamamos la zona de

agotamiento, la cual, conforme aumenta la

difusión, crece en tamaño. Este crecimiento

se detendrá cuando el campo eléctrico

generado por los iones compensé el

movimiento de cargas entre la región P y N.

Esto dejara una diferencia de potencial

entre ambas regiones, que dependerá del

semiconductor utilizado, en el caso del

silicio será de 0,7 V, mientras que en el caso del germanio de 0,3 V. A este elemento es al que

llamaremos diodo. Seguidamente vamos a estudiar el comportamiento de estas uniones, o

diodos, cuando aplicamos una diferencia de potencia entre ellos.

Ilustración 3 Esquema unión PN

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3.1.1 Polarización Directa

Ahora vamos a considerar que aplicamos una

tensión entre los bornes N y P mediante la

conexión de una batería. Dependiendo de la

conexión que hagamos obtendremos un

resultado u otro.

Primero vamos a considerar que conectamos la

batería en lo que seria una polarización directa,

es decir, conectamos el polo positivo de la

batería al borne de material P, y el negativo al

material N. En este caso el potencial negativo de

la batería acercaría los electrones del material N

hacia la zona de agotamiento, mientras, los

electrones de valencia del material P se desplazaran hacia el borne, es decir, los huecos se

acumularan alrededor de la zona de agotamiento. En el momento en el que el potencia que

general la batería es mayor que el potencial de la zona de agotamiento, los electrones tendrán

,a suficiente energía como para saltar esta zona y podrán completar el circuito.

3.1.2 Polarización Inversa

Vemos que el comportamiento de un diodo en polarización directa es como la de un contacto

cerrado. Ahora consideraremos que polarizamos el diodo en inverso y estudiaremos su

comportamiento.

Esta vez, conectaremos el polo negativo de la batería al

positivo del diodo, el borne del material P, y el negativo

de la batería al negativo del diodo. En este caso el efecto

será inverso, el negativo de la batería aportara

electrones al material P, generando así iones negativos,

mientras que el positivo extraerá electrones del material

N, generando iones positivos. Este procesó provocara un

ensanchamiento de la zona de agotamiento hasta que el

potencial generado por esta compense el aportado por

la batería. Así, cuando conectamos el diodo en

Generalizando el comportamiento de las uniones PN en

el caso de un diodo podremos estudiar el

comportamiento de los transistores, que lo consideraremos como dos diodos unidos por el

mismo polo, así podremos explicar que hace exactamente el semiconductor para que produzca

el efecto que tiene el transistor.

Ilustración 4 Diodo polarizado en "directa"

Ilustración 5 Diodo polarizado en "inversa"

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4 Materiales Semiconductores.

Desde el punto de vista eléctrico, todos los elementos o compuestos se pueden agrupar en

tres categorías en función de la capacidad para mover los electrones de los átomos del

material: conductores, aislantes o semiconductores.

Los electrones de los átomos se ordenan en

órbitas, siendo los electrones de la capa más

cercana al núcleo los que menos energía

poseen. Para cambiar de órbita a un electrón

es necesario aplicar suficiente energía para

que éste alcance la órbita deseada, de lo

contrario, volverá a caer a su capa original.

Por éste motivo, los electrones situados en

órbitas interiores necesitan un aporte de

energía mayor para poder ser liberados, ya

que deben pasar por todas las capas,

recibiendo el aporte de energía

correspondiente a cada cambio. En cambio, a

los electrones situados en la última capa del

átomo, aunque poseen más energía, es más

fácil liberarlos.

Debido a que es más fácil liberar los

electrones de la última capa del átomo,

también llamada capa de valencia, serán éstos los que se moverán entre los átomos y

permitirán el paso de corriente eléctrica por el material.

Los electrones de una misma órbita poseen una energía muy parecida pero no es exactamente

igual, debido a las influencias de las cargas eléctricas que les rodean, formando así las bandas

electrónicas. Cada banda está separada por una banda prohibida, que es un espacio no

ocupado por electrones. La banda prohibida que separara la banda de conducción, que es el

intervalo energético donde están aquellos electrones que pueden moverse libremente puesto

que están libres de la atracción del átomo, con la de valencia puede tener un rango muy

variado de energía en función de cada material y, en función de la magnitud de ésta banda se

determinará la facilidad para la conducción eléctrica de cada material.

En los materiales semiconductores,

la banda energética es lo suficiente

pequeña para permitir el paso de

algunos electrones cuando se

realiza un aporte energético como

por ejemplo con un aumento la

temperatura, luz o presión.

Algunos ejemplos de materiales

semiconductores son:

Material Símbolo Banda (eV) Material Símbolo Banda (eV)

Ilustración 7 Banda prohibida

Ilustración 6 Órbitas electrónicas de un átomo

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Silicio Si 1.11 Sulfuro de cinc ZnS 3.6

Germanio Ge 0.66 Antimoniuro de galio GaSb 0.7

Arseniuro de aluminio AlAs 2.16 Óxido de cinc ZnO 3.37

Cuando un electrón es liberado de un átomo se rompe el enlace covalente que une dos

átomos del material, dejando un hueco vacío que ocupará otro electrón liberado de algún

átomo cercano. Este movimiento es el que permite el paso de la corriente a través de un

semiconductor.

4.1 Tipos de semiconductores

Debido al alto coste de purificación de los materiales, los semiconductores suelen contener

impurezas que alteran la conducción eléctrica. En función del número de impurezas que

contengan, los semiconductores, se clasifican en intrínsecos y extrínsecos.

4.1.1 Semiconductores intrínsecos

Los semiconductores intrínsecos son aquellos que son prácticamente puros ya que contienen,

como máximo, un átomo impuro por cada 1011 átomos de material semiconductor. Éstos

materiales, en condiciones normales, tienen un comportamiento aislante, ya que el número de

electrones libres y, por lo tanto los pares electrón-hueco, es prácticamente nulo.

Como se puede observar en la imagen, en el caso del silicio,

cada átomo del material tiene cuatro electrones de valencia

que son compartidos con los átomos adyacentes para unirse

entre ellos formando un enlace covalente. Esta unión crea

una red cristalina con enlaces fuertes, motivo por el cual los

electrones no pueden desplazarse por el material, formando

así un material aislante.

En cambio, si se aumenta la temperatura se otorga energía a

los electrones situados en la órbita más externa, permitiendo

que, algunos electrones, consigan liberarse del átomo y

permitan la conducción eléctrica.

Algunos electrones de un material semiconductor se pueden liberar de los átomos a

temperatura ambiente. En estos casos el número de pares electrón-hueco es muy pequeño,

por lo que no permiten la conducción. Aun así, si el material se somete a una diferencia de

potencial, los electrones libres se dirigen al polo positivo de la fuente dejando un hueco en la

red cristalina del material. Estos huecos producen un efecto similar al de una carga positiva.

Los huecos y los electrones libres son llamados portadores y permiten el paso de corriente

eléctrica ya que los electrones libres son atraídos por el polo positivo de la fuente de

alimentación, en cambio, los huecos actúan como portadores de carga positiva, permitiendo

adquirir un comportamiento conductivo.

Éstos semiconductores suelen ser usados para generar sistemas sensibles a la temperatura,

como por ejemplo termoresistencias.

Ilustración 8 Semiconductor intrínseco

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Ilustración 9 Semiconductor tipo P

Ilustración 10 Semiconductor tipo N

4.1.2 Semiconductores extrínsecos

Los semiconductores extrínsecos son aquellos que poseen aproximadamente un átomo

impuro por cada 107 átomos de semiconductor. Estas impurezas mejoran las propiedades

permitiendo un mejor paso de corriente eléctrica a través de él.

Por ejemplo, el silicio puro a 27ºC tiene una resistividad de 150.000 Ω/cm2 y un ancho de

banda prohibida de 1,12 eV. En cambio, en un semiconductor extrínseco de silicio se

disminuye la resistividad a 150 Ω/cm2.

Para producir semiconductores extrínsecos se debe someter el material a un proceso de

dopaje, dónde se introducen átomos de otros elementos en la red cristalina con el fin de

aumentar la conductividad. En función de los electrones de valencia de los materiales

dopantes se puede distinguir un semiconductor de tipo P o de tipo N.

En los semiconductores de tipo P se usan elementos

trivalentes, es decir, sus átomos tienen tres electrones de

valencia. Los materiales más usados en la formación de estos

semiconductores son el boro, el indio o el galio.

Los materiales semiconductores tienen cuatro electrones de

valencia, en cambio, los agentes dopantes trivalentes

contienen únicamente tres electrones en la órbita más

externa. Por este motivo se originará un hueco en la red

cristalina que facilitará el paso

de electrones ajenos a la red. A estos materiales también se les

llama donadores de hueco o aceptadores de electrones.

En cambio, en los semiconductores de tipo N se usan elementos

pentavalentes como el arsénico, el fósforo o el antimonio. Estos

materiales, al tener un electrón de valencia más que el

semiconductor, aportarán un exceso de electrones que, al no

estar enlazado con los átomos, se moverá libremente por la red

cristalina, aumentando así la conductividad. Estos

semiconductores también se denominan donador de

electrones.

4.2 Dopaje de semiconductores

El proceso de dopaje consiste en agregar impurezas a un material semiconductor intrínseco

con el fin de modificar las propiedades eléctricas. Los dopajes pueden ser ligeros para formar

los semiconductores extrínsecos o pesados que dan lugar a un material degenerado cuyas

propiedades eléctricas son parecidas a las de los conductores.

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Los dopajes ligeros se realizan añadiendo aproximadamente un átomo por cada 107 átomos de

semiconductor y dan lugar a material tipo P o tipo N. En cambio, en los dopajes pesados se

agrega aproximadamente un átomo por cada 104 átomos de semiconductor, dando lugar a

materiales degenerados de tipo P+ o N+.

Actualmente se puede dopar un material semiconductor mediante varios métodos. Aun así, los

más usados debido a la relación efectividad-precio son el dopaje por difusión, por aleación y

por implementación de iones.

4.2.1 Dopaje por difusión

La difusión es el mecanismo por el cual la materia se transporta a través de la materia. Este

proceso requiere un tiempo mayor que en otros procesos pero es barato y permite realizarse

con una cierta precisión. En el dopaje se puede emplear tanto la difusión sólida como la

gaseosa y suele realizarse a temperaturas elevadas para agilizar el proceso.

En el proceso de difusión gaseosa, los materiales se introducen en una atmósfera gaseosa que

aumenta el desorden molecular del sistema y permite una disolución de las partículas

difundidas en el soluto.

Este proceso necesita un coste energético bajo, por lo que se abarata notablemente el proceso

y lo convierte en el principal método de dopaje para un material semiconductor.

Existen varios métodos de dopaje para los transistores. El primer método usado debido a su

sencillez fue el llamado transistor de base difusa. En este método se usaban emisores de

aleación a los que se les difundía únicamente la base.

La doble difusión es otro método de dopaje que consiste en la difusión simultánea de la base,

el emisor y el colector. Este proceso se basa en la diferencia de velocidades de difusión en

función de la masa atómica de cada material. Por este motivo, la primera capa estará dopada

principalmente con los átomos del elemento más pesado y la más profunda, con los del

elemento más ligero.

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Para obtener los transistores de mesa. Este proceso se inicia con una oblea de Ge (tipo P) o Si

(tipo N) que actuará como colector al que se le difunde arsénico o boro respectivamente. Acto

seguido, se constituye el emisor difundiendo indio o fósforo y se encapsulan los terminales

fijando los terminales por termocompresión para evitar la degradación de las uniones. Este

método fue el primero en tener ambas bases difundidas y emisores difusos. La principal

ventaja de este método es la disminución de la superficie de unión entre la base y el colector,

por lo que se elimina en gran parte la capacidad parásita de esta unión. Por el contrario, estas

uniones también son muy sensibles a agentes externos, por lo que también se deben sellar

herméticamente para evitar la degradación.

Ilustración 11 Dopaje tipo Mesa

La última técnica, y también la más usada, se llama proceso planar. Este proceso no permite

únicamente la obtención de transistores, sino que también permite unir aquellos que deban ir

juntos en los circuitos impresos. En esta técnica, se proyecta sobre un plano una imagen del

circuito que se desea realizar. Esto permite realizar procesos de exposición de diversas

sustancias que son silicio para el sustrato, algún oxidante para crear óxido del silicio para los

aislantes y dopantes para los conductores.

Para esta técnica se parte de un disco de silicio poco dopado que se oxida mediante calor

(1200ºC). Acto seguido se vierte una resina fotosensible que se ilumina con un negativo del

circuito que se desea realizar y, a continuación se usa fluoruro amónico para eliminar la resina

polimerizada y el óxido situado bajo esta. Dejando una superficie de silicio puro que se

procede a dopar mediante difusión atómica. Finalmente de repite este mismo proceso para

formar el emisor y el colector.

Ilustración 12 Dopaje planar

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4.2.2 Dopaje por implantación de iones

Este proceso permite un control muy preciso de la zona que se desea dopar. Consiste en un

haz de luz cuyos iones se aceleran mediante un campo magnético y les permite chocar con la

superficie que se desea dopar del semiconductor. Variando el flujo de luz se consigue con

control de la cantidad de iones que se implantan en la superficie dopada.

Para conseguir un control aún más preciso de la zona que se desea dopar, se aplica una capa

fotoresistente sobre el material base con la forma de las zonas que no deben ser dopadas. A

continuación se provoca la colisión de los electrones con la oblea de sillico a una velocidad de

300.000 km/h que provoca la implementación de los iones en la oblea, alterando las

propiedades eléctricas iniciales de la oblea. Finalmente se elimina la capa fotosensible y se

sella el circuito de transistores para evitar la degradación debido a los agentes externos.

Mediante este proceso se puede obtener circuito muy complejos formados únicamente por

transistores como, por ejemplo, los circuitos formados por 774 millones de transistores que

forman los microporcesadores actuales.

Ilustración 13 Capa fotosensible Ilustración 14 Implantación de iones Ilustración 15 Circuito final

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5 Semiconductores en un Transistor

El funcionamiento del transistor se caracteriza por el comportamiento de los semiconductores

de su interior y su distribución. Podemos considerar el transistor como un par de diodos

contrapuestos. El transistor presenta dos uniones, una entre el emisor y la base, y otra entre la

base y el colector, así podremos sepáralo como diodo emisor y diodo receptor. Esto generará

dos barreras iónicas, zonas de agotamiento, en el transistor, de un potencial característico

según el material utilizado (0,7 V a 25 ºC en el caso del silicio).

Esta seria la configuración normal del transistor sin polarización y desconectado. Una vez lo

conectamos a las fuentes y lo polarizamos es cuando vemos como actúa realmente un

transistor.

Un transistor nos permite mediante una pequeña corriente aplicada en la base, permitir el

paso de una corriente mucho mayor entre el emisor y el colector. Esto se genera por que la

polarización que existe entre el emisor y la base es directa, mientras la entre la base y el

colector es inversa, en seguida veremos como lo hace.

Ilustración 16 Schematics by Altium: Transistor BJT NPN

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Para estudiar cómo se comporta el transistor nos centraremos en el NPN, ya que su

funcionamiento es extrapolable al resto de transistores. Un transistor, a grandes rasgos, es un

interruptor que puede estar abierto, apagado o medio abierto.

La línea que controlamos es la vertical, podemos ver dibujada la representación de su malla

correspondiente al lado. Si únicamente tenemos este circuito conectado no existirá circulación

de corriente. Esto es debido a que entre el emisor y el colector aparece un diodo, el cual

impide la transmisión de electrones entre el tierra, a potencial 0, y la fuente a potencial VCC.

Cuando aplicamos un voltaje entre la base y el emisor, de modo que el potencial 0 está

conectado al emisor, que es N, y el positivo a la base, que es P, en esta malla, que tenemos

representada a la izquierda, se produce una circulación de corriente. Lo electrones se mueven

de la zona de menor potencia a la de mayor, arrastrando los electrones por el material N del

emisor y los huecos de la base y seguidamente por el positivo. De esta manera conseguimos

generar un flujo de electrones por la malla de emisor/base. Eso conllevara que la base, que

estaba llena de huecos y nos generaba un diodo para la circulación de la malla principal,

contenga electrones, que una vez se acerquen a la banda superior y al colector comenzaran a

“sentir” el potencial generado por el circuito principal y atravesaran la capa de agotamiento. La

presencia del colector nos permite ajustar el flujo de electrones generado entre el emisor y el

colector, ensanchando o reduciendo la capa de agotamiento de la junta PN, de esta manera, el

numero de electrones que consigue entrar en la zona P es mayor o menor.

Ilustración 17 Movimiento de cargas en un transitor

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De esta manera podemos controlar la corriente de un circuito mediante otro “independiente”

de este. No es completamente independiente ya que la intensidad que circulara por la malla

emisor/base es proporcional a la corriente de la malla emisor/colector. Así un transistor

también nos puede servir de amplificador, ya que controlando una corriente bastante pequeña

podemos manipular otra mucho mas grande. Las corriente que circulan por ambas mallas

vendrán determinadas por la resistencia de cada malla y por el voltaje aplicado. Mediante las

leyes de Ohm y Kirchhoff podremos relacionar ambas mallas, aun que no entraremos en este

ámbito.

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6 Obtención de cristales de semiconductor

Los semiconductores se utilizan en forma de obleas, planchas finas de semiconductor que se

utilizan para la fabricación de componentes electrónicos. Para poder obtener estas obleas del

semiconductor primero se deber purificar, ya que deben contener muy pocas impurezas,

seguidamente se obtiene el mono cristal y a partir de este la oblea. Para ejemplificar cada

proceso utilizaremos el silicio puesto es el semiconductor mas común.

6.1 Purificación

El objetivo de este proceso es conseguir que el

semiconductor que se esta trabajando obtenga

unos grados de impurezas muy muy bajos. Por

ejemplo, el grado de calidad del silicio debe

rondar entre 8N y 11N, que significa que debe

haber únicamente una impureza en un volumen

atómico de entre 10^8 y 10^11 átomos. Esto

implica una pureza de entre el 99,999999% y el

99,999999999%, donde el 8 y el 11 son la

cantidad de nueves que contiene el porcentaje

de pureza.

Para obtener Si de esas calidades primero se

refina químicamente a 2000ºC mediante

carbono, produciendo la siguiente reacción:

SiO2 + 2C = Si + 2CO2 (gas)

Una vez obtenido el silicio de grado metalúrgico deberemos reducir sus impurezas hasta

obtener silicio de alta pureza. Esto lo conseguiremos mediante un proceso de cloración,

seguido de la destilación selectiva, de lo que obtenemos barras de silicio policristalino.

Si (sólido) + 3 HCl (gas) = SiHCl3 (gas) + H2 (gas) + calor (Cloración)

SiHCl3 (gas) + 3H2 (gas) = 2 Si (sólido) + 6 HCl (gas) (Destilación selectiva)

Ilustración 18 Silicio mineral

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Este procesó se denomina proceso

Siemens, mediante la cloración se

obtiene un producto que es sencillo de

purificar, después se descompone el

triclorosilano en un reactor Siemens y

obtendremos de nuevo el Si policristalino

con mayor pureza.

Una vez obtenemos el grado de pureza

que requeriremos de nuestro silicio

policristalino, podremos proceder con la

formación del monocristal del

semiconductor.

Ilustración 20 CIlindro de Silicio policristalino

Ilustración 19 Proceso Siemens

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6.2 Crecimiento del Cristal

Una vez tenemos el semiconductor

debemos “transformarlo” para que

pase de tener una estructura

policristalina a una estructura

monocristalina. En este proceso

podemos incluir la introducción del

dopaje correspondiente al

semiconductor, aun que también

existen procesos de dopaje después

de la obtención del monocristal.

Para el Si el proceso de crecimiento

mas común es el método Czochralski,

que dependiendo del material, del

grosor deseado y características será

más rápido o más lento, pero rondara

los 50-100 mm/hr.

Para el procedimiento se deposita el Si de alta pureza policristalino en un crisol de cuarzo,

puesto que no es reactivo, y seguidamente se funde a una temperatura superior a 1420ºC en

atmosfera inerte. Seguidamente se coloca el cristal semilla en el silicio fundido y una vez se

han soldado se extrae poco a poco la semilla del crisol mientras rotan ambos elementos en

sentidos opuestos. De esta manera se solidifica el semimetal lentamente formando así un

cristal único. Mediante la velocidad de extracción y la temperatura podemos controlar el

diámetro del cilindro que queremos formar.

Ilustración 21 Proceso Czochralski

Ilustración 22 Esquema de funcionamiento proceso Czochralski

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Las principales fuentes de contaminación son el propio crisol y el oxigeno, que es impureza

aceptora profunda no deseada, que es mas difícil de extraer.

Durante este proceso también podemos proceder con el dopaje de los cristales, añadiendo las

impurezas directamente sobre la mezcla fundida. El problema de este proceso aparece cuando

tenemos en cuenta la segregación de dopantes, la concentración de impurezas en la fase

líquida (Cl) es diferentes a la fase sólida (Cs), según la siguiente relación:

k0= CS / CL

La K0 viene determinada por el propio dopante y en ningún caso es mayor de 1, el coeficiente

más alto es el del Boro, que es 0,8. Esto quiere decir que la concentración de dopante será

siempre mayor en la fase liquida que en la solida. Esto conllevara que la concentración del

dopante a lo largo del Silicio no será constante, sino que ira aumentando conforme mas

dopante haya acumulado en la fase liquida.

Ilustración 23 Diagrama de distribución de dopantes en el proceso Czochralski

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6.3 Fusión por Zonas

Otro efecto que nos ofrece la segregación es que podemos purificar el lingote de

semiconductor mediante el mismo principio de segregación anterior. Para mejorar las

propiedades de pureza podemos

aprovechar la fusión de una zona

del lingote determinada, que por

segregación tendrá la capacidad

de acumular impurezas. Esta

zona fundida se desplaza a un

extremo con las impurezas para

acumularlas y poder eliminar el

material. Gracias a la tensión

superficial la zona fundida no se

desplazara. Utilizando este

método se pueden obtener los

cristales de silicio mas puros, los

cuales se pueden utilizar

también en aplicaciones

optoelectrónicas.

6.4 Preparación de Obleas

Para preparar el material final se requiere primero una inspección del monocristal,

imperfecciones, propiedades, resistividad…En el proceso suele representar la perdida de la

mitad del lingote. Seguidamente se tornea la superficie para delimitar el diámetro del lingote y

se bisela para los equipos de procesado y su identificación.

Primero se corta el cilindro en discos circulares

mediante una sierra de diamante de alta

velocidad para proporcionar una elevada calidad

de corte. Seguidamente se procede con el pulido

de las obleas, comenzando por su nivelado con

una resina de oxido de aluminio, seguido del

grabado, que mediante acido se eliminan los

daños superficiales, después le sigue un pulido

mecánico químico, con diferentes granos y por

ultimo la limpieza de partículas orgánicas,

óxidos, impurezas metálicas o partículas que

pudieran permanecer en la oblea.

Por ultimo deben pasar por un proceso de inspección de defectos, dislocaciones o cualquier

error que pueda existir en el cristal.

Ilustración 24 Fusión por zonas

Ilustración 25 Comparación oblea como materia prima final (abajo) y después de la impresión de los circuitos

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7 TRANSISTORES: FUNCIONAMIENTO Y TIPOS

7.1 Funcionamiento de los transistores

Como hemos introducido anteriormente, los transistores son

dispositivos que forman parte de los circuitos eléctricos y

que tienen la función de dejar pasar la corriente o

amplificarla. Dentro de un circuito, el transistor puede

adoptar tres estados distintos. El primero de ellos es el

estado activo. En éste, el transistor deja pasar más o menos

corriente. También puede estar en corte, cuando no deja

pasar corriente. Finalmente, podrá estar en saturación, es

decir,

dejará pasar toda la corriente.

Para facilitar el entendimiento de su

funcionamiento utilizaremos un ejemplo

más sencillo pero que funciona de igual

manera. Consideraremos el corriente como

un flujo de agua y el transistor como la llave

de agua. Para que el agua pueda pasar de E a C la llave deberá moverse por lo que tendrá que

haber algo en la pequeña tubería B que la haga subir o bajar.

Si no pasa agua por la tubería B, significa que la válvula está cerrada por lo que no se produce

un paso de fluido del emisor (E) al colector (C). Entonces decimos que el transistor está en

corte. Por otro lado, si se abre la válvula debido a una cierta presión en B, el agua empezará a

pasar de E a C. En este caso, el transistor estará en activa. Finalmente, si llega suficiente

presión por B, la válvula se abrirá completamente y pasará la máxima cantidad posible de agua

de E a C. Cabe destacar que por más presión a la que sometamos B, la cantidad de agua que

pasará será la misma, es decir, la máxima que permita la tubería. Por lo tanto, vemos que para

una pequeña cantidad en B hace pasa mucha más agua entre E y C. Cuando sucede esto

decimos que el dispositivo actúa como amplificador.

Como hemos dicho, este ejemplo funciona igual que un transistor. Cuando a un transistor no le

llega nada de corriente a la base, no hay pase de corriente entre el emisor y el colector,

funciona como un interruptor abierto entre el emisor y el colector. Cuando tiene la corriente

máxima su funcionamiento es como el de un interruptor cerrado dejando que deja pasar la

corriente entre el emisor y el colector, pasando así la máxima corriente permitida por el

transistor. Finalmente puede darse el caso que a la base del transistor le llegue una corriente

más pequeña que la corriente máxima. En este caso, entre el emisor y el colector pasará una

corriente intermedia que no llegará a la máxima.

Ilustración 26 Esquema funcionamiento de un transistor como amplificador

Ilustración 27 Estados transistor

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En resumen, podemos considerar el funcionamiento de un transistor

como uno parecido al de un interruptor, que deja pasar o corta la

corriente de un circuito, pero en este caso, en lugar de activarse

manualmente, se activa aplicando una corriente a la base. En este

caso, dejara pasar o cortara señales eléctricas a partir de una

pequeña señal de mando. Por otro lado, también puede funcionar

como amplificador del corriente que pasa por el circuito. Al emisor le

llega una señal pequeña que al pasar por el transistor, se convierte

en una más grande. No obstante, tal y como hemos dicho en un

principio, también puede funcionar como oscilador, conmutador y

rectificador.

Finalmente cabe destacar que en un transistor existen tres corrientes distintas. Por un lado la

de la base (Ib), por otro lado la que llega al emisor

(Ie) y en último término, la que sale por el colector (Ic).

7.2 Tipo de transistores.

Actualmente existen muchos tipos de transistores, aunque los más comunes son los

transistores bipolares y los transistores de efecto campo. No obstante, los comentaremos

todos.

A continuación se muestra un pequeño esquema con todos ellos:

7.2.1 Transistores de unión bipolar

Ilustración 28 Intensidades en un transistor

Ilustración 29 Esquema tipos de transistores

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Los transistores de unión bipolar, son unos dispositivos electrónicos que como hemos

anunciado anteriormente, pueden servir como un amplificador de corriente. Estos dispositivos,

constan de dos uniones pn que se forman de manera

secuencial en un solo cristal de un material semiconductor

como el silicio.

En la figura 1, se muestra de manera esquemática un

transistor de unión bipolar tipo npn y se identifican las tres

partes principales del transistor; emisor, base y colector. El emisor del transistor emite

portadores de carga. Puesto que el emisor del transistor npn es de tipo n, emite electrones. La

base del transistor, controla el flujo de portadores de carga y

es de tipo p para el transistor npn. La base se hace muy

delgada y se hace ligeramente impurificada, de modo que

sólo una pequeña fracción de los portadores de carga del

emisor se recombinarán con los portadores mayoritarios de

la base cargados de modo opuesto. El colector BJT colecta

portadores de carga, sobre todo del emisor. Puesto que la

sección del colector del transistor npn es de tipo n, ésta

colecta principalmente electrones del emisor.

Como hemos anunciado, existen dos tipos de transistores de unión bipolar, los NPN y los PNP.

La principal diferencia entre estos dos transistores, está relacionada con la entrada y la salida

de la corriente en ellos. Como acabamos de ver, en los transistores NPN, la corriente entra por

el colector y sale por el emisor, mientras que en el caso de les PNP la corriente de salida entre

el emisor y el colector.

Para diferenciarlos, se utilizan distintos símbolos de circuito tal y

como muestra la imagen. Las distintas letras hacen referencia a las

capas de material semiconductor que se ha usado para construir el

transistor.

Ilustración 30 Transistor bipolar

Ilustración 31 fig 1

Ilustración 32 Símbolos de los transistores NPN Y PNP

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7.2.2 Transistores de efecto campo

Los transistores de efecto campo (FET), son dispositivos electrónicos que se usan mucho en los

sistemas microelectrónicos debido a su bajo costo y a su calidad de compacto. Es un

dispositivo de tres terminales y dos junturas, creado en un material semiconductor con

diferentes contaminaciones, que permiten regular la circulación de una corriente eléctrica

mediante una corriente de control, mucho menor. Los FET pueden plantearse como

resistencias controladas por una diferencia de potencial.

En los transistores podemos diferenciar tres zonas semiconductoras juntas dopadas

alternativamente con purezas donadoras o aceptadoras de electrones. Estas tres terminales se

denominan puerta, drenador, y fuente. El contacto donde los electrones entran se conoce

como la fuente, y el contacto donde sales recibe el nombre se drenaje. La puerta es la terminal

equivalente a la base en los BJT. El transistor de efecto campo se comporta como un

interruptor controlado por la tensión, donde el voltaje aplicado a la puerta permite hacer que

fluya o no el corriente entre el drenador y la fuente.

Esta alternación es la que permite diferenciar, en los transistores MOSFET, entre NMOS (canal

N) o PMOS (canal P) y, en los transistores JFET, entre JFET-N (canal N) o JFET-P (canal P).

Modelo de transistor FET de canal N

Ilustración 33 Transistor FET canal N

Modelo de transistor FET de canal P

Ilustración 34 Transistor FET canal P

El caso particular y más usado de los dispositivos FET, son los transistores MOSFET, que son los

que se explican a continuación más detalladamente.

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En el MOSFET, se coloca, en el lado del semiconductor, una delgada capa de material aislante

formada por óxido de silicio. También se coloca una capa de metal en el lado de la compuerta.

A diferencia de los transistores bipolares, donde la corriente que circula por el colector está

controlada por la corriente que circula por la base, en los transistores FET la corriente de salida

es controlado por una tensión de entrada, es decir, por un campo eléctrico.

Los transistores MOSFET se pueden dañar con facilidad por lo que hay que manipularlos con

cuidado. Se pueden destruir con facilidad si existe una alta tensión o si hay electricidad estática

debido a la fina capa de óxido.

Tal y como hemos anunciado anteriormente, existen dos tipos de transistores MOSFET, los de

canal N y los de canal P.

Los de tipo n o NMOS, se crean dos islas de silicio tipo

n en un sustrato de silicio tipo p, como se muestra en

la imagen. Entre el silicio tipo n de la fuente y el

drenaje, hay una región tipo p sobre cuya superficie se

forma una delgada capa de dióxido de silicio que actúa

como aislante. En la parte superior del óxido de silicio

otra capa de polisilicio (metal) se deposita para

formar el tercer contacto del transistor, denominado

la compuerta. Puesto que el dióxido de silicio es un

excelente aislador, la conexión de la compuerta no

está en contacto eléctrico directo con el material tipo

p debajo del dióxido.

El MOSFET, al igual que el transistor bipolar, es capaz también de amplificar corriente. La

ganancia en dispositivos MOSFET suele medirse en términos de un cociente de voltaje en vez

de un cociente de corriente como en el transistor bipolar. Los MOSFET tipo p con huecos para

los portadores mayoritarios pueden fabricarse de manera similar, utilizando islas tipo p para la

fuente y el drenaje en un sustrato tipo n. Puesto que los portadores de corriente son

electrones en los dispositivos NMOS y huecos en los dispositivos PMOS, éstos se conocen

como dispositivos de portadores mayoritarios.

Ilustración 35 MOSFET canal N

Ilustración 36 MOSFET canal P

Ilustración 37 Esquema funcionamiento MOSFET

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7.2.3 Transistores UJT

Los transistores de unijuntura (UJT), se utilizan

fundamentalmente como dispositivos de generación de

pulsos de disparo. Su funcionamiento es muy diferente al

de los transistores expuestos anteriormente. No

obstante, como en todos los casos, también está formado

por tres terminales, aunque ahora son dos bases y un

emisor.

Estos transistores, están compuestos por una

barra semiconductora de tipo N o P, y dos

conexiones eléctricas a sus dos extremos.

Dependiendo de si la barra semiconductora es

N o P clasificaremos los transistores en UJT-N

(canal N) o UJT-P (canal P). Se contamina el

cristal P con un gran número de impurezas con

la intención de crear un gran número de

huecos. Sin embargo, al cristal N, se le dopa con

muy pocas impurezas, por lo que existirán muy

pocos electrones libres en su estructura.

7.2.4 Transistores de potencia

Los transistores de potencia tienen un funcionamiento y una utilización muy parecida a la de

los transistores de unión bipolar y a los FET. No obstante, tienen características propias. Éstos

pueden soportar altas tensiones e intensidades y por lo tanto son capaces de disipar altas

potencias. Podemos diferenciar dos grupos importantes: los transistores IGBT y los tiristrores.

7.2.4.1 Transistores IGBT

Los IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) se pueden considerar, desde el punto de vista de

su empleo, como una mezcla entre los transistores bipolares y los MOSFET ya que combina

ventajas de ambos. Contienen la sencillez de ataque de los últimos aunque por otro lado tiene

bajas pérdidas de conmutación como los BJT aunque puede trabajar a elevada frecuencia y

con grandes intensidades.

Este tipo de transistores se inventaron no hace mucho tiempo, pero su evolución ha sido muy

rápida debido a que han demostrado tener una resistencia en conducción muy baja y una

elevada velocidad de conmutación, es decir, la transmisión desde el estado de conducción al

de bloqueo se puede considerar de unos microsegundos, y la frecuencia puede estar alrededor

de los 50 KHz. Por otro lado, también cuentan con una elevada tensión de ruptura.

Como en todos los transistores podemos diferenciar tres zonas semiconductoras: el emisor, la

puerta y el receptor. La estructura recuerda mucho a la de un transistor MOSFET donde se

utilizan obleas de tipo N sobre la que se deposita una fina capa semiconductora. El IGBT está

constituido de forma casi idéntica. La capa fina semiconductora presenta el mismo espesor y

se dopa igual que en un FET. Sin embargo, existe una diferencia importante: el material de

Ilustración 39 Transistor UJT

Ilustración 38 Diagrama transistor UJT

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partida es una oblea dopada de tipo P en lugar de de tipo N. La unión PN, inyecta portadores

(huecos) en la región semiconductora fina tipo N reduciendo si resistividad y rebajando la

caída de tensión en conducción. Este proceso también se conoce con el nombre de

"Modulación de la Conductividad" y contribuye a aumentar la capacidad de conducción.

7.2.4.2 Tiristor

Un tiristor, es un transistor que tiene dos estados de funcionamiento, el de bloqueo y el de

conducción. Lo forman dos terminales, el ánodo y el cátodo a las que se añade la puerta. Está

constituido por cuatro capas semiconductoras que forman una estructura pnpn. Por lo tanto,

se puede modelar como dos transistores típicos PNP y NPN. Actúa como un

interruptor, está abierto hasta que la tensión directa aplicada alcanza un

cierto valor, entonces se cierra y permite la conducción continua hasta que

la corriente se reduce por debajo de un valor específico. El tiristor es capaz

de dejar pasar plenamente o bloquear por completo el paso de la corriente

sin tener nivel intermedio alguno, aunque no son capaces de soportar

grandes sobrecargas de corriente.

Ilustración 40 Esquema tiristor

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8 Aplicaciones de los transistores

El transistor es el componente más importante de la electrónica y, por lo tanto ha

evolucionado notablemente. En sus inicios, los transistores tenían un tamaño muy elevado, ya

que los primeros transistores comerciales median aproximadamente 7,5cm. Debido a la gran

importancia en el sector, estos elementos han

evolucionado disminuyendo su tamaño a

aproximadamente 130 nanómetros.

La evolución no solo ha afectado al tamaño, sino

que también ha mejorado sus propiedades,

permitiendo el paso de mayor voltaje, intensidad o

durabilidad de los elementos que lo forman.

Estas evoluciones han provocado el

descubrimiento de nuevas técnicas para su

obtención y, por lo tanto, diferentes tipos de

transistores como ya se ha explicado

anteriormente.

Aunque todos los transistores funcionen bajo el mismo principio, se pueden optimizar sus

características en función del campo en el que se apliquen. Es por este motivo que las

aplicaciones para cada tipo de transistor son muy variadas.

8.1 Aplicaciones BJT

Los transistores BJT fueron de gran importancia en el pasado pero debido a su baja impedancia

se han ido sustituyendo. Aun así continúan siendo elementos de gran importancia en la

electrónica.

Su principal aplicación se centra en la amplificación de corriente, puesto que tienen la

capacidad de amplificar la corriente que pasa entre los terminales del emisor y el colector en

función de la corriente aplicada en su base.

Por el mismo principio explicado anteriormente, si el transistor trabaja en modo de saturación,

no sólo pueden usarse como amplificadores, sino que también es habitual su uso como

interruptores controlados eléctricamente.

8.2 Aplicaciones FET

Los transistores tipo FET se caracterizan por ser dispositivos controlados por tensión con una

impedancia de entrada muy elevada. Las principales ventajas que tiene respecto los BJT son

una menor generación de ruido y su mayor estabilidad a altas temperaturas, por lo que

permiten disipar una gran potencia y conmutar corrientes elevadas. También cabe destacar

que la obtención de este tipo de transistores es más fácil que la de los tipo BJT.

Los transistores FET también pueden comportarse como resistencias controladas por tensión

para valores pequeños de tensión drenaje-fuente.

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Debido a estas propiedades, se pueden usar en una gran variedad de aplicaciones como

pueden ser:

- Aislador o separador: Debido a su impedancia alta en la entrada y baja en la salida los

convierten como los mejores dispositivos para separar líneas. Los principales usos en

este campo son en equipos de media o receptores de señales.

- Amplificadores de radiofrecuencia: Son óptimos para estos usos debido al bajo ruido

que generan: Se usan principalmente en sintonizadores de radio y televisión o en

cualquier dispositivo de comunicación.

- Mezclador: La principal ventaja por la que se usan como mezclador es la baja

distorsión de intermodulación. Se suelen usar como mezcladores en los receptores de

ondas.

- Amplificador con CAG: Gracias a la facilidad para controlar la ganancia de estos

transistores se pueden usar como generadores de señales.

- Oscilador: Los transistores FET tienen una mínima variación de frecuencia por lo que

son los adecuados para usarte en generadores de frecuencias patrón para ser

comparadas al tomar otras medidas.

Las principales desventajas que limitan su uso son la respuesta de frecuencia baja debido a la

alta capacidad de entrada, su baja linealidad y el hecho de que se puedan dañar con facilidad

debido a la electricidad estática.

8.3 Aplicaciones UJT

La principal ventaja de estos transistores es su bajo coste. Además, si trabajan en condiciones

normales, tienen una muy baja absorción de potencia, tienen una resistencia característica

negativa y el consumo de intensidad en corte es muy bajo.

Las principales aplicaciones de los transistores UJT son en la fabricación de los osciladores, en

circuitos de disparo, para generar oscilaciones en forma de sierra, para controlar la fase de

circuitos temporizados y en las redes biestables.

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9 INVESTIGACIONES ACTUALES EN TRANSISTORES

- Una de las nuevas investigaciones e innovaciones que se está

llevando a cabo actualmente en el sector de la electrónica y

concretamente en el ámbito de los transistores es la creación de

nuevos transistores transparentes de grafeno y nanotubos de

carbono con dieléctricos arrugados. No es fácil fabricar

transistores transparentes que se puedan estirar o pegar sobre

cualquier superficie. Hasta ahora se había intentado con

transistores de tipo FET pero presentaban un gran problema. Éste

era el dieléctrico poco robusto que contenían, ante

deformaciones y estiramientos. Por esta razón la nueva propuesta para conseguir este nuevo

dispositivo se basa en la utilización de nuevos materiales, el grafeno y los nanotubos. El

grafeno es un material derivado del grafito que está compuesto tan solo por una capa de

átomos de carbono y tiene unas propiedades extraordinarias. Se cree que éste podría ser el

sustituto del silicio como material básico para toda la industria de la electrónica. No obstante,

existen problemas para procesar el material. En el caso de los transistores, el uso de este

nuevo material, soluciona el problema del dieléctrico usando una capa de Al2O3 arrugada que

atrapa aire, capaz de resistir estiramientos de hasta el 20% sin degradación apreciable de sus

propiedades. Gracias a ello se pueden pegar a superficies arrugadas como un tubo de pasta de

dientes.

- Intel y los nuevos transistores Tri-Gate "3D" de sus Ivy Bridge.

Tri-Gate es el nombre que reciben los nuevos transistores creados

por Intel. Estos tienen una estructura tridimensional y buscan

mejorar muy notablemente la eficiencia de sus futuros

microprocesadores. Con la estructura tridimensional, se consigue

la implantación de un nuevo funcionamiento que permite

minimizar el consumo energético cuando es necesario. De este

modo, se logra optimizar el rendimiento. Se han tardado casi diez

años en desarrollar este nuevo producto hasta que ha podido

llegar, en los últimos tiempos, al mercado.

- Otro nuevo tipo de transistor considerado de alta

eficiencia está fabricado con disulfuro de molibdeno o

molibdenita. Al parecer, este nuevo transistor presenta

muchas ventajas con respecto a aquellos fabricados con

silicio o grafeno para aplicaciones electrónicas. La utilización

de este nuevo material, permitiría fabricar transistores más

pequeños y más eficientes que los actuales.

La molibdenita es un semiconductor abundante que se

encuentra en la corteza terrestre. Hasta ahora, nunca se

habían estudiado sus propiedades electrónicas de manera

exhaustiva de modo que, únicamente se había utilizado en

aleaciones de acero o como aditivo en lubricantes. También

Ilustración 41 Usos grafeno

Ilustración 42 Transistor Tri-Gate 3D

Ilustración 43 Oblea de Molibdenita

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es importante destacar que, las láminas de molibdelina tienen un grosor extremadamente fino

imposible de conseguir, actualmente con el silicio. Por otro lado, un transistor de molibdenita

consumiría mucho menos energía en estado de reposo que un transistor tradicional de silicio.

- Otro de los estudios que se está realizando en el

mundo de los transistores son los transistores

orgánicos, hechos de base de carbono, finos y

transparentes. Aunque aún están en fase experimental,

se ha demostrado que consiguen velocidades de

operación muy altas y similares a las del silicio que es

más caro. Con esta nueva invención se cree que se

podrían llegar a fabricar productos como pantallas de

alto rendimiento muy baratas. Los científicos buscan

llegar a crear semiconductores orgánicos capaces de

realizar operaciones electrónicas a una velocidad

cercana a la de la tecnología que tenemos actualmente.

Ilustración 44 Oblea de transistores orgánicos

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10 Conclusiones

Los transistores son unos dispositivos electrónicos semiconductores que nacieron para

solventar una necesidad humana, la de comunicarse a distancia. No obstante sus buenas

propiedades y su gran abanico de aplicaciones los han llevado a convertirse en una de las

bases más importantes de la electrónica actual. Su importancia en la industria electrónica de

hoy en día hace que sea un mundo todavía en investigación donde se continúan desarrollando

nuevas técnicas de fabricación e innovaciones con el objetivo de mejorar aún más sus

propiedades. Algunos ejemplos de ello, son los transistores orgánicos o los transistores en 3D

que buscan una eficacia mayor.

Son muchos los años de investigación y desarrollo que han transcurrido. Por este motivo,

actualmente contamos con muchos tipos de transistores con propiedades diferentes que

permiten aplicaciones distintas. Este hecho permite utilizar el transistor más adecuado en cada

circunstancia.

La base de los transistores son los materiales semiconductores. Éstos materiales se

caracterizan por ser materiales aislantes pero con capacidad para variar su conductividad

eléctrica en función de las condiciones a les que se les somete.

Los materiales semiconductores presentan una gran oposición al paso de corriente pero ésta

puede incrementarse mediante el uso de agente dopantes que, al impurificar el material,

permite la liberación de un electrón o la formación de un hueco entre átomos que facilitan el

movimiento de los electrones.

Los procesos de dopaje y creación de transistores se han perfeccionado hasta el punto de

poder disminuir su tamaño hasta los 14 nanómetros. Debido a estas dimensiones se pueden

crear elementos muy complejos en una superficie muy pequeña.

La unión de los semiconductores se ha convertido en uno de los avances de la ciencia y la

tecnología más importantes de los últimos tiempos. El comportamiento de los electrones en su

interior permite realizar operaciones que hasta hace unos años habrían sido impensables y que

ahora han convertido el transistor en el elemento básico de la informática, la electrónica y las

telecomunicaciones.

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11 BIBLIOGRAFIA

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edición). Madrid: McGraw Hill.

PIERRET, Robert F. Introduction to semiconductorsmaterials and devices (Segunda edición).

Introduction to semiconductorsmaterials and devices - M.S. TYAGI

Fundamentos de semiconductores - Robert F. Pierret - Segunda Edición